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一、產品介紹
二(er)氧化硅抛光液是以高(gao)純度硅粉為原料，經特殊工藝(yi)生產的一種高純度低金屬离(li)子型抛光產品。廣泛用(yong)於多種(zhong)材料納米級的高平坦化抛光。如：硅片、化合物晶體、精密光學器件、寶石(shi)等的抛光加工。

二、使用方法
1.使用前將抛光織物(wu)用清水湿透，避免摩擦发熱(re)；
2、启動(dong)抛光盘后將抛光剂轻摇后倒置(zhi)喷出；
3、喷洒抛(pao)光剂時，應以抛光盘中心為圆心沿半径(jing)方向喷出(chu)，3-5秒即可。新(xin)織物喷洒時間應相(xiang)應延长，以使織物有更好的磨抛能力；
4、抛光過程中不断加入(ru)適(shi)量的清水即可。

三、產品特點
1、以高純度硅粉(fen)為原料，經特殊工藝(yi)生產的一種高純度低金屬离(li)子型抛光產品。
2、廣泛用(yong)於多種(zhong)材料納米級的高平坦化抛光。
3、高抛光速(su)率、高純度(du)，有效减小對電子類產(chan)品

四、產品參数